چین به پیشرفت در حوزه اسکنرهای تراشه‌سازی EUV ادامه می‌دهد
چین به پیشرفت در حوزه اسکنرهای تراشه‌سازی EUV ادامه می‌دهد
فناوری EUV یکی از پیشرفته‌ترین روش‌ها برای تولید تراشه‌های مدرن با ابعاد کمتر از ۷ نانومتر محسوب می‌شود. شرکت هلندی ASML از سال‌ها قبل در زمینه‌ی تولید ماشین‌های EUV انحصار جهانی داشت، اما از سال ۲۰۱۹ به‌دلیل تحریم‌های ایالات متحده از فروش تجهیزات پیشرفته‌ی EUV به چین منع شد. محدودیت‌های مورد اشاره در سال ۲۰۲۴ گسترش یافت و ماسک‌های EUV، ماشین‌های حکاکی و سایر قطعات مرتبط با تراشه‌سازی پیشرفته را نیز در بر گرفت.دانشمندان چینی اکنون با استفاده از روش‌های جایگزین سعی دارند محدودیت‌های آمریکا را دور بزنند. یکی از مهم‌ترین پیشرفت‌ها در تولید EUV با استفاده از روش LDP به دست آمده است. این روش نوآورانه نیاز به فناوری LPP را حذف می‌کند.در فرایند LDP، قلع با استفاده از لیزر بخار می‌شود و با تخلیه‌ی ولتاژ بالا، پلاسما به‌دست می‌آید که نور EUV را فراهم می‌کند. روش مذکور علاوه‌بر سادگی و کارایی بالا، از نظر هزینه و مصرف انرژی نیز بصرفه‌تر است، هرچند هنوز چالش‌هایی در بهینه‌سازی توان خروجی آن وجود دارد.بر اساس اعلام Fantastic Vision، مؤسسه‌ی فناوری هاربین تحت هدایت پروفسور ژائو یونگ‌پنگ، به دستاورد مهمی در تولید منبع نور EUV با استفاده از فناوری LDP دست یافته است. این تکنولوژی که با الزامات فوتولیتوگرافی سازگاری دارد، جایزه‌ی برتر مسابقه‌ی نوآورانه‌ی استانی هاربین را از آن خود کرد.مؤسسه‌ی فناوری هاربین در ژانویه‌ی ۲۰۲۴ (دی و بهمن ۱۴۰۲) با همکاری مؤسسه‌ی اپتیک و مکانیک شانگهای اقدام به بهبود قابلیت‌ها و سیستم کنترل نور EUV کرد. همچنین، مؤسساتی مثل دانشگاه تسینگ‌هوا و مؤسسه‌ی تحقیقاتی اطلاعات فضایی منطقه‌ی خلیج گوانگ‌دونگ روی بهینه‌سازی توان و منابع نوری آینده تمرکز کرده‌اند.مقاله‌های مرتبط:مدیرعامل ASML: صنعت تولید تراشه چین ۱۰ تا ۱۵ سال از غول‌های تراشه‌سازی عقب‌تر استموضع سخت آمریکا دربرابر چین ممکن است به سامسونگ ضربه بزندشرکت Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) در سال ۲۰۲۳ پتنتی برای تولید ژنراتورهای تابش EUV ثبت کرد. این اقدام پیشرفت چین در توسعه‌ی تجهیزات لیتوگرافی را نشان می‌دهد. به‌هرحال SMEE همچنان از شرکت‌های پیشرو جهانی مانند ASML عقب است و نمی‌تواند ماشین‌هایی برای تولید انبوه تراشه‌های زیر ۲۸ نانومتر تولید کند.صنعت نیمه‌رسانای چین همچنان با موانع زیادی از جمله وابستگی به قطعات وارداتی و محدودیت‌های اعمال‌شده از طرف ایالات متحده دست‌وپنجه نرم می‌کند. البته رویکرد چندجانبه‌ی چین که شامل نوآوری فناوری، همکاری‌های علمی و سرمایه‌گذاری‌های استراتژیک می‌شود، نشان‌دهنده‌ی عزم جدی این کشور برای غلبه بر موانع و دستیابی به خودکفایی در تولید تراشه‌های پیشرفته است.
